Pengaruh Tekanan Chamber Dan Laju Alir Gas Pada Proses Modifikasi Permukaan Polistiren Menggunakan Metode Plasma Rf Dengan Dc Bias

Telah dilakukan perlakuan plasma nitrogen menggunakan metode plasma RF dengan DC bias di atas permukaan polistiren dengan variasi tekanan chamber dan laju alir gas. Tujuan dari penelitian ini untuk menganalisis pengaruh tekanan dan laju alir terhadap karakter plasma dan sifat hidrofobisitas permukaan polistiren di atas quart crystal microbalance (QCM) sensor. Pelarut toluena digunakan untuk melarutkan polistiren dan larutan polistiren dideposisikan di atas permukaan QCM dengan teknik spin coating. Perlakuan plasma nitrogen dilakukan dengan variasi tekanan chamber 40, 50, 60, 70, dan 80 Pa dengan parameter konstan laju alir 60 ml/menit, tegangan RF 90 volt dan DC bias 400 volt. Sedangkan variasi laju alir 20, 30, 40, 50, 60, dan 70 ml/menit dengan parameter konstan laju alir 60 ml/menit, tegangan RF 90 volt dan DC bias 400 volt. Spesies plasma diukur dengan optical emission spectroscopy (OES) Aurora 400 berupa panjang gelombang dan intensitas